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真空化学气相沉积工艺(Chemical Vapor Deposition,英文简称CVD), 俗称：真空气相镀膜，纳米镀膜或派瑞林镀膜。是一种把含有构成薄膜元素的长链性高分子材料（派瑞林Parylene等）、单质气体经过升华、热解后进入放置产品的真空反应室，借助空间气相化学反应并在产品表面上沉积生成的0.1-100um薄膜涂层的工艺技术。薄膜涂层厚度均匀，致密无针孔、透明无应力、不含助剂、不损伤产品、有优异的电绝缘性和防护性，是当代最有效的防潮、防霉、防腐、防盐雾涂层材料。
CVD化学气相沉积流程
随着时代的发展，电子产品技术的不断革新。高新技术与智能化的发展，精密的电子设备元件需要适应各种恶劣的工作环境，达到工业对其更高的要求：高可靠，小型化，抗干扰等等。因此，电子零部件的环境适应性和防护力就成了重中之重。
LPMS为适应现有市场需求, 通过开发创新，成功的将派瑞林镀膜技术运用到电子产品行业。我们在材料、工艺和设备方面的专有技术使我们能够为客户带来高质量的超薄与纳米级保形涂层，其成就在行业得到认可。
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CVD派瑞林真空气相沉积工艺镀膜后产品表面化学纯度高，镀膜均匀，无小孔，无气泡，不会脱落，无热应力。
我们能为您做什么？
针对客户具体项目，进行项目评估、提供专业可行的CVD（派瑞林parylene）真空气相沉积工艺解决方案，以及纳米涂层加工服务(打样测试或大批量加工生产)。
根据客户技术要求提供CVD真空气相沉积工艺所需的Parylene派瑞林粉体，并给于专业的技术指导；
为有需要的客户提供有针对性设计的CVD（派瑞林parylene）真空气相沉积工艺设备（真空气相沉积镀膜机、真空脱气炉等相关设备）。
CVD派瑞林镀膜广泛用于航空航天、电路板、LED 、磁性材料、传感器、硅橡胶、密封件、医疗器械、珍贵文物等领域。CVD派瑞林镀膜后的电子产品具有极高的绝缘强度和耐高低温(-60至200度)、抗腐蚀、耐酸碱、润滑、防尘、防潮、防锈、透明、防水(最高可达IP68)、抗老化、生物兼容性等。
LPMS拥用标准的真空气相镀膜车间和10多台CVD真空气相沉积设备，可为客户提供CVD真空气相沉积纳米级涂层的打样测试或大批量生产代加工服务。同时也可提供包括产品的从SMT表面黏着、DIP插件、无铅制程、焊接加工、低压注塑/点胶、真空气相镀膜、产品测试、成品包装的全程代工代料服务，亦也可为客户提供新产品开发服务。
CVD真空气相沉积工艺所使用的是一种保护性长链性高分子材料(中文名：派瑞林、聚对二甲苯、英文名：Parylene)，它可在真空下气相沉积，活性分子的良好穿透力能在元件内部、底部，周围形成无针孔，并厚度均匀的透明绝缘涂层，给元件提供了一个完整的优质防护涂层，抵御酸碱、盐雾、霉菌及各种腐蚀性气件的侵害，因为所使用的不是液体，所以涂敷过程中不会聚集，桥接式形成弯月面。
Parylene派瑞林高分子材料根据分子结构可分为： N、C、 D、F、HT等多种 类型。我们可根据客户技术要求与产品提供CVD真空气相沉积工艺所需的Parylene派瑞林粉体与原料，并给于专业的技术指导。
派瑞林牌号 成膜特性 | CAT N粉 | CAT C粉 | CAT D粉 | CAT F(VT4)粉 | CAT AF4(HT)粉 |
密度（gm/cc) | 1.1 | 1.3 | 1.41 | 1.55 | 1.5 |
介电常数（1Mhz) | 2.6 | 2.9 | 2.8 | 2.3 | 2.2 |
介电强度（V/Mil) | 7000 | 5600 | 5500 | 5000 | 7000 |
最低持续工作温度(空气中） | -60°C | -60°C | -60°C | -60°C | -60°C |
最高持续工作温度(空气中） | 60°C | 80°C | 110°C | 200°C | 300°C |
摩擦系数-动态 | 0.25 | 0.29 | 0.38 | 0.39 | 0.16 |
线性膨胀系数(ppm at 25°C) | 69 | 35 | 38 | 45 | 34 |
吸水性（24H后） | <% 0.1 | <% 0.1 | <% 0.1 | <% 0.1 | <% 0.1 |
水蒸气透过率(gm.mm)/m2.day) | 0.6 | 0.08-0.1 | 0.1 | 0.25-0.32 | 0.2 |
氧气穿透率(cc.mm)/(m2.day.atm) | 16 | 3 | 12.0-13.5 | 16.8 | 25.3 |
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